ASML 극자외선 리소그래피 독점과 중국의 기술 자립 경쟁

ASML's EUV extreme ultraviolet light source reaches 1,000W output, cementing its advanced chip manufacturing monopoly while China, U.S. startups, and export controls form a tense triangle.

단 하나의 기업이 전 세계 첨단 반도체 생산의 병목을 틀어쥐고 있다면, 그 기업을 둘러싼 지정학적 갈등은 단순한 무역 분쟁을 넘어선다. ASML 극자외선(EUV) 리소그래피 장비는 현존하는 가장 정밀한 제조 기술의 결정체로, 2026년 현재 이 네덜란드 기업의 일거수일투족은 반도체 공급망의 판도를 좌우하는 핵심 변수로 부상했습니다. EUV 광원 출력을 1000W까지 끌어올리는 기술 혁신을 거듭하는 한편, 중국은 국가적 명운을 걸고 자체 개발의 장도에 나섰으며, 미국은 스타트업 생태계와 수출 규제를 동시에 동원하는 복합 전략으로 맞서고 있습니다. 이 삼각 구도의 진원지를 들여다봅니다. Read more »